제 1장 반도체장비 산업동향과 정책방향
1. 반도체 개요
1-1. 개념 및 특성
1) 개념
(1) 시스템 반도체
(2) 특화 디바이스
(3) 메모리
(4) 공정·장비·소재
2) 특성
1-2. 반도체산업 현황 및 전망
1) 국내외 시장현황 및 전망
1-3. 2011년도 중점추진 계획
1) 중점방향
2) 전략목표
3) 사업추진 계획
1-4. 서비스 & 제품 Milestone 및 기술로드맵
1) 시스템반도체
2) 특화디바이스
3) 메모리
4) 공정, 장비, 소재
1-5. 기술개발 계획
1) 시스템 반도체
(1) 목표
(2) 중점연구 분야
2) 특화디바이스
(1) 목표
(2) 중점연구 분야
3) 메모리
(1) 목표
(2) 중점연구 분야
4) 공정, 장비, 소재
(1) 목표
(2) 중점연구 분야
2. 부문별 시장동향
2-1. EUV 마스크 actinic 검사장비 및 멀티 전자빔 웨이퍼 검사기술 개발 (개발)
1) 개요
(1) 개념 및 정의
2) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙 정도
3) 시장 경쟁력 분석
2-2. 반도체 장비?재료 성능평가 협력사업(기반조성)
1) 개요
(1) 개념 및 정의
2) 시장 현황
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙 정도
3) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
2-3. 차세대 메모리용 3D 적층 신소자 및 핵심 소재 공정 기술 개발(원천)
1) 개요
(1) 개념 및 정의
2) 시장동향 및 전망
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙 정도
3) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
2-4. 초미세 고 신뢰성 배선기술(원천)
1) 개념 및 정의
2) 시장 동향
(1) 시장 규모 및 성장률 예측
(2) 시장구조 및 경쟁현황
(3) 시장 성숙 정도
3) 시장 경쟁력 분석
(1) 사업화 소요기간 및 경제적 수명 예측
(2) 예상시장 점유율 및 총매출액 예측
제 2장 반도체장비 관련 핵심기술 개발전략과 과제
1. EUV 마스크 actinic 검사장비 및 멀티 전자빔 웨이퍼 검사 기술 개발 (개발)
1-1. 개요
1-2. 후보과제 분석
1) 기술성 분석
(1) 마스크 검사장비
(2) 웨이퍼 검사장비
2) 후보과제 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
(4) 기술 성숙정도
(5) 융합성
3) 후보과제 기술수준 분석
(1) 특허관점에서의 기술수준
(2) 후보과제 기술수준 판단
4) 독창성 분석
(1) 지재권 확보 가능성
5) 장애요인
6) 기술개발 및 사업화 성공가능성
1-3. 연구목표 및 내용
1) 연도별 목표 및 내용
2) 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
2. 반도체 장비?재료 성능평가 협력사업(기반조성)
2-1. 개요
1) 정부지원 필요성
2-2. 후보과제 분석
1) 기술성 분석
(1) 식각 장비분야
(2) 세정 장비분야
(3) CMP 장비분야
(4) 증착 장비분야
2) 후보과제 기술 분석
(1) 기술적 중요도
(2) 기술적 시급성
(3) 기술적 파급효과
3) 후보과제 기술수준 판단
4) 후보과제 기술수준 분석
2-3. 연구목표 및 내용
1) 최종 목표 및 내용
2) 연도별 목표 및 내용
2-4. 추진체계 및 사유
1) 추진체계
2) 연구개발결과의 활용방안 및 기대효과
3. 차세대 메모리용 3D 적층 신소자 및 핵심 소재 공정 기술 개발(원천)
3-1. 개요
1) 배경
2) 정부지원 필요성
3-2. 후보과제 분석
1) 기술성 분석
(1) 관련 기술명
2) 독창성 분석
(1) 특허맵 분석
(2) 특허동향